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深圳后浪實驗室長期聚焦于以等離子體物理為基礎(chǔ)的物理氣相沉積技術(shù)(高功率脈沖磁控濺射HiPIMS、常規(guī)濺射技術(shù)、陰極弧、離子注入、微弧氧化等)、核心裝備、等離子體模擬、涂層/薄膜材料與應(yīng)用方面的研究。
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